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    探索超純水的絕對純度,滿足半導體行業用水需求

    發布時間:2022-11-24

      目前,我國國家電子級水(高純水)標準將“高純水”分為四個等級,分別為電阻率18MΩ·cm以上、15MΩ·cm、12MΩ·cm、0.5MΩ·cm;美國ATSM根據超純水電阻率18.3MΩ·cm的理論極限值,將18.1MΩ·cm以上的超純水用水標準再細化為四個細分等級,成為當前電子和半導體行業常規參考的用水要求。

      由此可見,生產芯片的用水并非日??梢姷淖詠硭?或者是純凈水,半導體工廠生產和清洗半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示器、高精度電路板、光電器件等各種電子器件的時候,都需要用到電阻率為18兆歐以上的超純水,這樣的超純水幾乎不導電,不會影響電子產品的性能,同時水中幾乎不含金屬離子,不會對復雜芯片表面造成劃痕或者不可逆的影響。當集成電路的集成度越高,線寬越窄,對水質的要求也就越高。

      超純水設備是采用預處理、反滲透技術、超純化處理以及后級處理等方法,將水中的導電介質幾乎完全去除,又將水中不離解的膠體物質、氣體及有機物均去除至很低程度的水處理設備。萊特萊德超純水設備能夠連續穩定地制備高質量的超純水,不會因樹脂再生而停止運行。設備內部還安裝有反滲透預脫鹽技術,再次從根本上確保了設備的出水質量。同時,EDI處理裝置廢水產量少,不會污染環境,具有很高的環境效益和經濟效益,具有廣闊的發展前景。

      伴隨芯片市場的崛起,也為超純工藝技術企業帶來廣闊的機遇與挑戰,科技不斷探索超純水的絕對純度,產水水質接近絕對純度,電導率無限接近18.24MΩ•厘米的理論極限值,其純度可達99.9999999999%,不斷滿足半導體行業日趨提升的用水需求。

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